Серия A4H/A4X

Насосы второго поколения вобрали в себя опыт более чем десятилетнего анализа работы у крупнейших производителей полупроводников. Насосы позволяют заметно увеличить производительность и уменьшить незапланированное время простоя и эксплуатационные расходы.

Высочайшая надежность:

• широкие каналы между ступенями способны поглотить большие количества пыли и частиц

• высокая рабочая температура с точной системой терморегулирования с обратной связью и линейным повышением температуры от фланца всасывания до выхлопа

• вертикальный процесс откачивания на каждой ступени, который препятствует скоплению частиц пыли в зонах вращения ротора насоса

• использование литой стали и специальных сплавов для изготовления компонентов насоса обеспечивает высокую коррозионную стойкость и механическую прочность.

Соответствие требованиям полупроводниковой промышленности:

• компактность: Серия 2 всего 390 мм в ширину

• чистота: бесконтактная технология многоступенчатого Рутса и отсутствие масла полностью исключают возможность загрязнения.

Низкая стоимость владения:

• низкое энергопотребление

• небольшая теплоотдача насосов серии 2, позволяет уменьшить поток охлаждающей воды

• возможность изменения величины продувочного газа вручную. Насосы версии LM не требуют продувки\

• низкий уровень шума: Все модели имеют встроенный глушитель

• насосы соответствуют требованиям Semi S2

Применения:

ADP122LM, ADS602LM

• загрузочные шлюзы

• камеры перегрузки

• PVD (Напыление)

ADP122P, ADS602P, ADS1202P, ADS1802P

• озоление

• стриппинг

• травление

• ионная имплантация

• CVD (осаждение)

ADS602H, ADS1202H, ADS1802H

• PECVD (плазмохимическое осаждение)

• LPCVD (осаждение на пониженном давлении)